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詳解光刻巨人ASML成功之奧妙

日期:2024-10-16     瀏覽:650    下載:17     體積:7.05M     評論:0    












 投資要點

  歷經(jīng)40年發(fā)展,通過不斷收購?fù)瑯I(yè)和上游供應(yīng)商、創(chuàng)新并引領(lǐng)行業(yè)技術(shù)突破,ASML現(xiàn)已成為全球第一大IC光刻機廠商。ASML于1984年成立,40年來公司產(chǎn)品布局專注于IC前道光刻機,從創(chuàng)業(yè)之初的篳路藍縷,幾經(jīng)突破后終成光刻巨人。2023年,ASML實現(xiàn)營收276億歐元(約2150億人民幣),同比+30%,凈利潤78億歐元(約610億人民幣),同比+39%。

  光源&數(shù)值孔徑&工藝因子三輪驅(qū)動,共促光刻技術(shù)迭代。光刻機在光刻工藝中承擔曝光這一核心步驟,投影式掩模光刻長期成為IC光刻機采用的主流技術(shù)。投影式光刻機可按曝光方式分為掃描式、步進重復(fù)式和步進掃描式(目前步進掃描式為行業(yè)主流),也可按光源類型分為UV、DUV和EUV光刻機。過去40年光刻機的技術(shù)迭代主要圍繞分辨率、套刻精度、產(chǎn)能三大關(guān)鍵指標以及決定分辨率的光源波長、數(shù)值孔徑和工藝因子三大參數(shù)展開。

  光源系統(tǒng)&光學(xué)系統(tǒng)&雙工件臺為光刻機三大核心部件。光刻機產(chǎn)業(yè)鏈覆蓋眾多上游組件&系統(tǒng)和中游配套設(shè)備&材料,其中光源系統(tǒng)、光學(xué)系統(tǒng)、雙工件臺為光刻機的三大核心部件,價值量占比分別為15%、24%、12%。光源供應(yīng)幾乎由美國Cymer和日本Gigaphoton壟斷;光學(xué)系統(tǒng)包括照明系統(tǒng)和投影物鏡兩大組成部分,其中投影物鏡技術(shù)難度極高,EUV投影物鏡由德國蔡司一家壟斷;雙工件臺由ASML于2001年最先推出,可在大幅提升光刻機產(chǎn)率的同時實現(xiàn)更高精度。

  光刻機市場:一超雙強格局穩(wěn)定,晶圓擴產(chǎn)拉動需求增長。2023年全球IC光刻機市場規(guī)模接近260億美元,且穩(wěn)定呈現(xiàn)“一超雙強”的競爭格局,其中ASML在DUV和EUV光刻機市場均占據(jù)主導(dǎo)地位,特別是EUV光刻機市占率達到100%。展望未來光刻機市場需求,ASML預(yù)計2025年、2030年全球晶圓需求將分別達1280萬片/月、1660萬片/月(等效12英寸),2020-2030年成熟制程和先進制程晶圓需求CAGR分別為6%和10%,從而帶動光刻機特別是中高端光刻機的需求增長。

  ASML核心壁壘:技術(shù)、生態(tài)、資金三重壁壘筑高墻。通過復(fù)盤ASML的發(fā)展歷程,我們發(fā)現(xiàn)ASML的成功之路離不開技術(shù)、生態(tài)、資金三大要素,而這三大要素也鑄造了ASML未來持續(xù)壟斷行業(yè)的高大護城河。(1)技術(shù):ASML早期憑借PAS5500、雙工件臺、浸沒式、EUV四項技術(shù)實現(xiàn)趕超日本,如今ASML各項光刻機指標均在引領(lǐng)行業(yè),成為延續(xù)摩爾定律的先鋒。(2)生態(tài):ASML已掌控了光刻機的光源、光學(xué)系統(tǒng)、雙工件臺這三大最核心部件的供應(yīng),并與全球頭部晶圓廠客戶深度合作,已構(gòu)筑起完善而牢固的生態(tài)網(wǎng)絡(luò)。(3)資金:ASML早期獲得了頭部客戶的股權(quán)投資,中后期又在自身大量盈利以及荷蘭政府的補貼/減稅支持下,持續(xù)巨額投入資金研發(fā)、收購供應(yīng)商,不斷強化自身優(yōu)勢。

  國產(chǎn)光刻機:前路漫漫亦燦燦,吾將上下而求索。美日荷意圖通過光刻機管制政策限制中國大陸先進制程發(fā)展,其中EUV光刻機早已明令禁入中國大陸,如今ArFi光刻機的管制也在加強。但我們看到,2023年以來ASML已將較多高端ArFi光刻機交付中國大陸,其中湖北、安徽、北京三地為進口ASML中端光刻機的主要省市。光刻機國產(chǎn)化方面,目前國產(chǎn)光刻機實現(xiàn)自主可控的三大核心要素均已具備,生態(tài)網(wǎng)絡(luò)正逐步完善,資金面相對充足,但最為關(guān)鍵的技術(shù)端仍然薄弱。目前國內(nèi)光刻機可實現(xiàn)65nm制程,整體技術(shù)水平落后ASML約20~30年,但在政府重視程度不斷加深、多家頂尖科研院所與高校的共同努力下,我們看好未來SMEE和各大院所在技術(shù)端的持續(xù)突破。

  風險提示:半導(dǎo)體行業(yè)投資不及預(yù)期,設(shè)備國產(chǎn)化進程不及預(yù)期,國際貿(mào)易摩擦加劇風險,半導(dǎo)體技術(shù)快速迭代風險。

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