據(jù)悉，近日，華中科技大學（華中大）披露，華中大機械學院劉世元教授團隊成功研發(fā)我國首款完全自主可控的OPC軟件。

 

光刻是芯片制造中最為關(guān)鍵的一種工藝，通過光刻成像系統(tǒng)，將設計好的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小，硅片上的曝光圖形會產(chǎn)生畸變。在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必須采用一類名為OPC（光學臨近校正）的算法軟件進行優(yōu)化。沒有OPC，所有IC制造廠商將失去將芯片設計轉(zhuǎn)化為芯片產(chǎn)品的能力。

 

劉世元介紹，“沒有OPC，即使用了光刻機，也造不出芯片。”OPC軟件即“光學鄰近校正軟件”，是芯片設計工具EDA的一種。

 

目前，全球OPC工具軟件市場完全由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美國公司占領(lǐng)。如今，隨著華中大科研團隊成功研發(fā)全國首款OPC軟件，填補了國內(nèi)空白，未來也將助力我國芯片制造業(yè)發(fā)展。

 

據(jù)悉，劉世元是華中大光學與電子信息學院、機械科學與工程學院雙聘教授，擔任華中大集成電路測量裝備研究中心主任，也是光谷實驗室集成電路測量檢測技術(shù)創(chuàng)新中心主任。

 

劉世元表示，今后，將帶領(lǐng)團隊加快產(chǎn)品推廣步伐，加快進入國內(nèi)外芯片制造廠商市場，力爭成為全球芯片產(chǎn)業(yè)鏈中重要的一環(huán)。