近日，卓芯杰（蘇州）半導(dǎo)體材料科技有限公司國產(chǎn)光刻膠項目落戶蘇州太倉。太倉科技消息顯示，該項目由新加坡南洋理工大學(xué)劉穎果博士團(tuán)隊領(lǐng)銜，旨在突破半導(dǎo)體材料“卡脖子”技術(shù)，研發(fā)193nm ArF光刻膠產(chǎn)品。

據(jù)介紹，該項目在主體樹脂的結(jié)構(gòu)設(shè)計、單體的合成工藝、主體樹脂的合成工藝、光致產(chǎn)酸劑的評價、配方研究等多個方面論證了193nm光刻膠的研制工藝，研制出的樣品可在7-14nm的光刻機(jī)上使用。機(jī)構(gòu)分析指出，由于高端光刻膠的保質(zhì)期很短（通常只有6個月左右甚至更短），一旦遇到進(jìn)口“限供”甚至“斷供”，勢必面臨國內(nèi)芯片企業(yè)短期內(nèi)全面停產(chǎn)的嚴(yán)重不利局面。隨著關(guān)鍵原材料國產(chǎn)化進(jìn)程提速，國內(nèi)廠商有望實現(xiàn)份額提升。

（來源：科創(chuàng)版日報）