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光馳半導體原子層鍍膜與刻蝕鍍膜項目竣工

日期:2024-06-18 閱讀:614
核心提示:光馳半導體技術(上海)有限公司投資建設的原子層鍍膜與刻蝕設備項目順利完成竣工驗收。

 近日,光馳半導體技術(上海)有限公司投資建設的原子層鍍膜與刻蝕設備項目順利完成竣工驗收。

原子層鍍膜與刻蝕設備項目項目位于寶山高新區07-17地塊,總投資5.48億元,占地面積50畝,總建筑面積6.44萬平方米,其中一期建筑面積約3.8萬平方米,涵蓋標準廠房、研發辦公樓等。項目主要致力新型電子元器件及設備制造,利用全球泛半導體產業鏈的調整與相關前沿研發的投入與技術整合,實現電子專用設備制造產業化、規模化。

光馳半導體技術(上海)有限公司,作為光馳科技(上海)有限公司全資子公司,項目的竣工標志著企業將邁入發展增長的快車道。光馳科技自2000年入駐南部園區以來,憑借其在半導體光學領域的專注和創新,產品技術市場占有率和競爭力不斷擴大。2022年,光馳科技將傳統光學與半導體技術融合,于北部園區投資設立光馳半導體,進一步提升制造空間與產能,開辟光學元器件向半導體集成光學轉變的新市場。項目預計達產后年產能將達到高精度原子層鍍膜機120臺和5臺刻蝕機,成為助力區域產業升級的新興力量。

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