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光馳半導體原子層鍍膜與刻蝕設備項目竣工

日期:2024-07-11 閱讀:284
核心提示:光馳半導體技術(上海)有限公司投資建設的原子層鍍膜與刻蝕設備項目順利完成竣工驗收。

近日,光馳半導體技術(上海)有限公司投資建設的原子層鍍膜與刻蝕設備項目順利完成竣工驗收。

原子層鍍膜與刻蝕設備項目項目位于寶山高新區07-17地塊,總投資5.48億元,占地面積50畝,總建筑面積6.44萬平方米,其中一期建筑面積約3.8萬平方米,涵蓋標準廠房、研發辦公樓等。項目主要致力新型電子元器件及設備制造,利用全球泛半導體產業鏈的調整與相關前沿研發的投入與技術整合,實現電子專用設備制造產業化、規模化。 

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