日本產業技術綜合研究所（AIST）正在與英特爾公司合作，投資1000億日元（7億美元），建立一個尖端半導體研究中心。該研究中心將于2027年投入使用，將專注于先進半導體的開發。英特爾將與AIST合作建立該研究中心，并由AIST負責運營。英特爾將提供極紫外（EUV）光刻技術方面的專業知識，該技術對生產小于5nm的芯片至關重要。這將是日本研究所首次安裝EUV光刻設備。

英特爾和AIST還將成立一家合資公司來監督該項目。AIST將投資約1000億日元，并尋求日本半導體設備和材料供應商的進一步資助。研究中心可能設在AIST位于茨城縣筑波的主基地，預計將聘請約100名專家，其中包括半導體公司的退休人員。

資金將來自日本政府補貼和“后5G基金”等先進半導體開發項目，部分企業投資將填補缺口。鑒于EUV設備成本高昂，企業可以支付使用費來使用這些工具，并參與AIST的項目。英特爾在日本開發先進芯片技術的努力不止于此。2024年4月，英特爾與歐姆龍和夏普合作成立半導體后端工藝工程自動化和標準化研究協會（SATAS），隨后，AIST、TDK和Aoi Electronics也加入了該協會。

 （來源：集微）