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極智報告|南京電子器件研究所黃潤華:1.2kV 4H-SiC DMOSFET的設計與制造

視頻2025-01-10 11:58
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南京電子器件研究所黃潤華博士分享了1.2kV 4H-SiC DMOSFET的設計與制造關鍵點。他表示,未來的工作主要還是針對一千兩百伏到一千七百伏的企業,要實現一個產品化,目前提供可生產性基本滿足產品要求,未來就是為了降低電阻,提升我們的可靠性,還要進行下一步的研究。再下一步要開發三千三百伏到一萬伏,爭取到五千伏的時候推出一些產品。
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