據(jù)國外媒體報(bào)道，荷蘭ASML公司是全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司，作為半導(dǎo)體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商的ASML（阿斯麥）去年交付了26臺(tái)極紫外光刻機(jī)（EUV），調(diào)查公司Omdia表示，其中約一半面向大客戶臺(tái)積電。

ASML ASML此前公布，2019年，共向客戶交付了26臺(tái)極紫外光刻機(jī)。其中，在第四季度交付了8臺(tái)。

ASML還透露，去年交付的26臺(tái)極紫外光刻機(jī)中，有9臺(tái)是最新型號(hào)，即NXE:3400C。

英國調(diào)查公司Omdia推測(cè)稱，ASML去年交付的26臺(tái)極紫外光刻機(jī)，大約一半面向臺(tái)積電。

臺(tái)積電2019年正式啟動(dòng)7nm產(chǎn)品的量產(chǎn)，這只能通過波長(zhǎng)極短的EUV進(jìn)行操作。資料顯示，EUV光源波長(zhǎng)比目前深紫外線微影的光源波長(zhǎng)短少約15 倍，因此能達(dá)到持續(xù)將線寬尺寸縮小的目的。

在晶圓代工領(lǐng)域，臺(tái)積電掌握了全球約一半份額。

另外，三星電子、英特爾等也采購了ASML的極紫外光刻機(jī)設(shè)備。

ASML服務(wù)的客戶為全球主要的半導(dǎo)體制造商，打造在電力電子、通信和信息技術(shù)產(chǎn)品中廣泛應(yīng)用的芯片。

ASML公司總部位于荷蘭的Veldhoven市。生產(chǎn)基地和研發(fā)設(shè)施則位于康涅狄格州、加州、中國臺(tái)灣和荷蘭。科技發(fā)展中心及訓(xùn)練設(shè)施位于日本、韓國、荷蘭、中國臺(tái)灣和美國。

ASML在阿姆斯特丹泛歐證券交易所和納斯達(dá)克上市。周三收盤，ASML(NASDAQ:ASML)股價(jià)上漲2.2%至278.58美元，總市值約1169.51億美元。

ASML將在2021年推第二代EUV極紫外光刻機(jī)

ASML在2019年出售26臺(tái)EUV光刻機(jī)，主要為臺(tái)積電、三星的7nm及2020年開始量產(chǎn)的5nm工藝，該公司預(yù)計(jì)2020年將出貨35臺(tái)EUV光刻機(jī)。

目前，ASML出貨的光刻機(jī)主要是NXE:3400B及改進(jìn)型的NXE:3400C，兩者基本結(jié)構(gòu)相同，但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計(jì)，維護(hù)更加便捷，平均維修時(shí)間從48小時(shí)縮短到8-10小時(shí)，支持7nm、5nm兩種工藝。此外，NXE:3400C的產(chǎn)能也從之前的125WPH(每小時(shí)處理晶圓數(shù))提升到了175WPH。

不論NXE:3400B還是NXE:3400C，目前的EUV光刻機(jī)還是第一代，主要特點(diǎn)是物鏡系統(tǒng)的NA(數(shù)值孔徑)為0.33。根據(jù)光刻機(jī)的分辨率公式，NA數(shù)字越大，光刻機(jī)精度還會(huì)更高，ASML現(xiàn)在還研發(fā)NA 0.55的新一代EUV光刻機(jī)EXE:5000系列，主要合作伙伴是卡爾蔡司、IMEC比利時(shí)微電子中心。

EXE:5000系列的下一代光刻機(jī)主要面向后3nm時(shí)代，目前三星、臺(tái)積電公布的制程工藝路線圖也就到3nm，2nm甚至1nm工藝都還在構(gòu)想中，要想量產(chǎn)就需要新的制造裝備，新一代EUV光刻機(jī)是重中之重。

根據(jù)ASML的信息，EXE:5000系列光刻機(jī)最快在2021年問世，不過首發(fā)的還是樣機(jī)，真正用于生產(chǎn)還得等幾年，樂觀說法是2023年或者2024年才有可能看到NA 0.55的EXE:5000系列光刻機(jī)上市。