彤程新材（603650）宣布，公司從實際生產經營需求出發，擬通過公司全資子公司-上海彤程電子材料有限公司（簡稱，彤程電子）在上海化學工業區內使用自籌資金6.9853億元，投資建設“ArF高端光刻膠研發平臺建設項目”，項目預計于 2023年末建設完成。
據介紹，項目主要研究 ArF 濕法光刻膠工業化生產技術開發，通過建立標準化的生產及控制流 程，提升高端光刻膠的質量控制水平，實現 193nm 濕法光刻膠量產生產；同時，逐步建立先進的集成電路及配套材料開發與應用評價平臺。
彤程新材稱，根據公司發展戰略，進一步深化公司在電子材料領域的業務布局，彌補國內光刻膠技術與全球先進水平的差距，研究ArF光刻膠，特別是193nm濕法光刻膠的工業化生產技術，確定193nm光刻膠工程化放大技術、標準的生產流程及質量管控體系，研發生產光刻膠高端產品。
ArF光刻膠涵蓋的工藝技術很廣，可用于90nm-14nm甚至7nm 技術節點制造工藝，廣泛應用于高端芯片制造（如邏輯芯片、 存儲芯片、AI 芯片、5G 芯片和云計算芯片等）。
