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第四代半導體氧化鎵,浙大杭州科創(chuàng)中心新技術(shù)路線制備 2 英寸晶圓

日期:2022-05-09 來源:半導體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)閱讀:587
核心提示:近日,浙江大學杭州國際科創(chuàng)中心先進半導體研究院在首席科學家楊德仁院士的帶領(lǐng)下,利用全新的熔體法技術(shù)路線研制氧化鎵體塊單晶以及晶圓,目前已成功制備直徑2英寸(50.8 mm)的氧化鎵晶圓。
據(jù)悉,近日,浙江大學杭州國際科創(chuàng)中心(以下簡稱“科創(chuàng)中心”)先進半導體研究院在首席科學家楊德仁院士的帶領(lǐng)下,利用全新的熔體法技術(shù)路線研制氧化鎵體塊單晶以及晶圓,目前已成功制備直徑2英寸(50.8 mm)的氧化鎵晶圓。
 
據(jù)浙大杭州科創(chuàng)中心消息顯示,使用新技術(shù)路線生長的氧化鎵晶圓有兩個顯著優(yōu)勢,一是使用這種方法生長出的氧化鎵晶圓的晶面具有特異性,使得制作的功率器件具有較好的性能;二是由于采用了熔體法新路線,減少了貴金屬銥的使用,使得氧化鎵生長過程不僅更簡單可控,成本也更低,具有更大的產(chǎn)業(yè)化前景。
 
此外,該團隊計劃在 2 年內(nèi)制造出直徑 4 英寸級別的大尺寸氧化鎵晶圓,進一步助力國內(nèi)氧化鎵材料的產(chǎn)業(yè)發(fā)展。 
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