2024年4月8-11日，一年一度化合物半導體行業盛會——2024九峰山論壇暨中國國際化合物半導體產業博覽會（簡稱“JFSC＆CSE”）將于武漢光谷科技會展中心舉辦。新毅東（上海）科技有限公司將攜新品亮相本屆盛會，誠邀業界同仁蒞臨3T19展臺參觀、交流合作。
本屆CSE博覽會由第三代半導體產業技術創新戰略聯盟、九峰山實驗室共同主辦，以“聚勢賦能 共赴未來”為主題，將匯集全球頂尖的化合物半導體制造技術專家、行業領袖和創新者，采用“示范展示+前沿論壇+技術與商貿交流”的形式，為產業鏈的升階發展搭建供需精準對接平臺，助力企業高效、強力拓展目標客戶資源，加速驅動中國化合物半導體產業鏈的完善和升級。
CSE作為2024年首場國際化合物半導體產業博覽會得到了多方力量的大力支持，三大主題展區，六大領域，將集中展示各鏈條關鍵環節的新技術、新產品、新服務，將打造化合物半導體領域的標桿性展會。助力打造全球化合物半導體平臺、技術、產業的燈塔級盛會，集中展示化合物半導體上下游全產業鏈產品，搭建企業發布年度新產品新技術的首選平臺，支撐產業鏈及中部地區建設具有全球影響力的萬億級光電子信息產業集群。
新毅東（上海）科技有限公司（以下簡稱“BNE”）成立于2014年3月，公司總部坐落于上海浦東臨港新片區，是一家提供半導體高端裝備系統解決方案的高新技術企業。BNE致力于光刻機、涂膠顯影機及高端濕法設備的研發及生產，積極引入海外成熟的產品與技術，具備為客戶提供相關設備的制程整合及解決方案。核心產品廣泛應用于集成電路、化合物半導體、微機電系統、光通信及照明等重要領域。與此同時BNE與中芯國際、燕東微電子、三安光電等半導體業界眾多龍頭企業保持良好的合作，積累了豐富的應用端的技術經驗，培養了具有專業素質的技術開發及服務團隊。主營業務：涂膠顯影設備、高端濕法設備的研發和生產；光刻再制造、涂膠顯影再制造；半導體設備零部件研發替代及相關技術服務。
產品介紹
光刻機再制造設備
致力于Nikon、Canon系列等光刻設備的再制造，產品應用領域覆蓋集成電路、合物半導體、微機電系統、光通信及照明等。
Nikon系列產品
Nikon G線光刻機，光源波長436nm，投影比例5:1，分辨率0.65µm，適用于2/4/6英寸生產線；
Nikon i線步進投影式光刻機，光源波長365nm，投影比例5:1，分辨率0.6~0.35µm，適用于2/4/6/8英寸生產線；
Nikon SF掃描式光刻機系列，光源波長365nm，投影比例4:1，分辨率0.28~0.35µm，適用于4/6/8/12英寸生產線；
Nikon KrF掃描式光刻機及Nikon EX系列，光源波長248nm，投影比例4:1，分辨率0.25~0.11µm，適用于4/6/8/12英寸生產線；
Nikon ArF掃描式光刻機，波長193nm，投影比例4:1，分辨率優于0.07µm，適用于8英寸及12英寸生產線。
Canon系列產品
Canon i線光刻機，波長365nm，投影比例5:1，分辨率0.5µm-0.35µm。適用于4/6/8英寸范圍生產線。
Canon KrF光刻機，波長248nm，投影比例4:1，分辨率0.25µm~0.13µm。適用于4/6/8/12英寸范圍生產線。
高端濕法設備
槽式清洗設備XW3000系列
槽式清洗設備XW3000系列，可用于RCA清洗，濕法去膠，介質層濕法刻蝕，金屬層濕法刻蝕，爐管前清洗以及其它特殊工藝清洗需求。設備采用模塊化設計，可依照客戶不同化學藥液及工藝需求定制化設計。
適用制程：Etch, PR Strip, Wafer Clean, Plating
應用領域：半導體先進封裝、2.5D/3DIC封裝、化合物半導體、硅晶圓制造、SiC晶圓制造、MOSFET晶圓后段制程（BGBM）、車用二極管、石英元件、CIS光學元件。
單芯片清洗設備XS5000系列
適用制程：Etch, PR Strip, Wafer Clean, Flux Clean, Mask Clean
應用領域：半導體先進封裝、2.5D/3DIC封裝、化合物半導體、硅晶圓制造、SiC晶圓制造、MOSFET晶圓后段制程（BGBM）、車用二極管、石英元件、CIS光學元件。
涂膠顯影設備
BNE TC1500涂膠顯影off line設備
BNE TC2000涂膠顯影設備
聯系方式：
地址：上海市浦東新區飛渡路1568號C5幢
電話：021-5088 0328
郵箱：sales@bjnewestech.com
微信公眾號：新毅東
值此之際，我們誠邀業界同仁共聚本屆盛會，蒞臨展位現場參觀交流、洽談合作。
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