國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示，廣東中圖半導(dǎo)體科技股份有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“一種高一致性圖形化襯底的制備方法、圖形化襯底和LED外延片”的專(zhuān)利，公開(kāi)號(hào)CN 119153591 A，申請(qǐng)日期為2024年9月。

專(zhuān)利摘要顯示，本發(fā)明實(shí)施例提供的一種高一致性圖形化襯底的制備方法、圖形化襯底和LED外延片，該方法首先提供一襯底；應(yīng)用物理、化學(xué)或機(jī)械平坦化技術(shù)中的至少一種，對(duì)襯底的第一表面進(jìn)行原子級(jí)平坦化處理，以使第一表面的粗糙度達(dá)到第一表面粗糙度范圍，和/或?qū)σr底的第二表面進(jìn)行原子級(jí)平坦化處理，以使第二表面的粗糙度達(dá)到第二表面粗糙度范圍；在襯底的第二表面形成光刻膠層；利用掩膜版對(duì)光刻膠層進(jìn)行曝光，以將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移至襯底的第二表面。解決了因襯底表面粗糙，使得在圖形化工藝曝光過(guò)程中，曝光光束在透過(guò)襯底時(shí)，在襯底表面發(fā)生反射、折射，從而對(duì)光刻膠進(jìn)行多次曝光，從而導(dǎo)致刻蝕后圖形化襯底的均一性降低的問(wèn)題。