國家知識產權局信息顯示，深圳晶源信息技術有限公司申請一項名為“一種光刻膠模型優化方法、程序產品、裝置和存儲介質”的專利，公開號 CN 119180203 A，申請日期為2024年9月。

專利摘要顯示，本發明涉及光刻技術領域，特別涉及一種光刻膠模型優化方法、程序產品、裝置和存儲介質，提供初始光刻膠模型，獲取初始光刻膠模型的多個待優化初始參數；提供遺傳算法模型對全部待優化初始參數進行迭代求解獲得優化參數；提供適應度函數組，適應度函數組包括最小化誤差函數，還包括允許誤差損失函數、網格損失函數和系數損失函數中的至少一種；在迭代過程中，采用適應度函數組對全部優化參數進行評估獲得每一優化參數的適應度值，在執行對優化參數的下一輪迭代時，以適應度值作為對應優化參數的優化權重；滿足預設條件時，停止迭代并輸出遺傳算法模型最終求得的目標參數本發明提供的方法能夠解決模型中存在的過擬合現象和一致性不佳的技術問題。