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安徽格恩半導體申請氮化鎵基化合物半導體激光器專利,提升遠場圖像FFP質量、光束質量因子和激光相干性

日期:2025-03-20 閱讀:246
核心提示:國家知識產權局信息顯示,安徽格恩半導體有限公司申請一項名為一種氮化鎵基化合物半導體激光器的專利,公開號CN 119627617 A,申

 國家知識產權局信息顯示,安徽格恩半導體有限公司申請一項名為“一種氮化鎵基化合物半導體激光器”的專利,公開號CN 119627617 A,申請日期為2024年8月。

專利摘要顯示,本發明涉及半導體激光元件技術領域,具體公開了一種氮化鎵基化合物半導體激光器。該氮化鎵基化合物半導體激光器,從下至上依次包括襯底、下限制層、下波導層、有源層、上波導層、上限制層,上波導層與上限制層之間具有強布里淵光力耦合層;強布里淵光力耦合層的In/C元素比例具有函數y=A+x?1/2x第一四象限曲線分布;In/O元素比例具有函數y=B+x?1/2x第一四象限曲線分布;In/H元素比例具有函數y=C+x?1/2x第一四象限曲線分布;該氮化鎵基化合物半導體激光器,能夠降低激光光場耗散,抑制光場模式泄漏到襯底形成駐波,提升遠場圖像FFP質量、光束質量因子和激光相干性。

天眼查資料顯示,安徽格恩半導體有限公司,成立于2021年,位于六安市,是一家以從事計算機、通信和其他電子設備制造業為主的企業。企業注冊資本8505.7882萬人民幣,實繳資本1316.6667萬人民幣。通過天眼查大數據分析,安徽格恩半導體有限公司共對外投資了1家企業,參與招投標項目4次,財產線索方面有商標信息2條,專利信息455條,此外企業還擁有行政許可12個。

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